這里是hs編碼8486303900對(duì)應(yīng)商品其他將電路圖投影或繪制到感光半導(dǎo)體材料上的裝置(制造平板顯示器用的機(jī)器及裝置)的歸屬分類詳細(xì)介紹頁(yè)面，包括其申報(bào)要素、海關(guān)監(jiān)管條件、出口退稅率等信息，并提供申報(bào)實(shí)例參考。
8486303900 其他將電路圖投影或繪制到感光半導(dǎo)體材料上的裝置(制造平板顯示器用的機(jī)器及裝置)
| 商品編碼 | 8486303900 | ||||
| 商品名稱 | 其他將電路圖投影或繪制到感光半導(dǎo)體材料上的裝置(制造平板顯示器用的機(jī)器及裝置) | ||||
| 申報(bào)要素 | 0:品牌類型;1:出口享惠情況;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型號(hào);6:GTIN;7:CAS; | ||||
| 法定第一單位 | 臺(tái) | 法定第二單位 | 無(wú) | ||
| 最惠國(guó)進(jìn)口稅率 | 0% | 普通進(jìn)口稅率 | 100% | 暫定進(jìn)口稅率 | - |
| 消費(fèi)稅率 | - | 增值稅率 | 16% | ||
| 出口關(guān)稅率 | 0% | 出口退稅率 | 16% | ||
| 海關(guān)監(jiān)管條件 | 無(wú) | 檢驗(yàn)檢疫類別 | 無(wú) | ||
| 商品描述 | 1.眼鏡半氣動(dòng)圓弧機(jī)MACHINE；2.用于眼鏡配件成型；3.配制眼鏡；4.無(wú)品牌；5.無(wú)型號(hào) | ||||
| 英文名稱 | Other apparatus for the projection or drawing of circuit patterns on sensitized semiconductor materials ( for the manufacture of flat panel displays) | ||||
所屬分類及章節(jié)
| 類目 | 第十六類 機(jī)器、機(jī)械器具、電氣設(shè)備及其零件；錄音機(jī)及放聲機(jī)、電視圖像、聲音的錄制和重放設(shè)備及其零件、附件（84~85章） |
| 章節(jié) | 第八十四章 核反應(yīng)堆、鍋爐、機(jī)器、機(jī)械器具及其零件 |
申報(bào)實(shí)例匯總
| 商品編碼 | 商品名稱 |
| 8486303900 | 陣列曝光機(jī) |
| 8486303900 | 陣列打碼周邊曝光裝置 |
| 8486303900 | 鐳射直接影像成形機(jī) |
| 8486303900 | 近接式曝光機(jī)-彩膜用腔體 |
| 8486303900 | 近接式曝光機(jī)-彩膜用本體 |
| 8486303900 | 近接式曝光機(jī)-彩膜用匣體 |
| 8486303900 | 近接式曝光機(jī)-彩膜用光源 |
| 8486303900 | 觸摸屏近接曝光裝置 |
| 8486303900 | 線路板光繪機(jī) |
| 8486303900 | 紫外曝光機(jī) |
| 8486303900 | 硅片清洗機(jī) |
| 8486303900 | 電路板印刷機(jī) |
| 8486303900 | 玻璃基板水準(zhǔn)式顯像機(jī) |
| 8486303900 | 曝光裝置-陣列 |
| 8486303900 | 曝光裝置 |
| 8486303900 | 曝光機(jī) |
| 8486303900 | 無(wú)掩膜直寫光刻機(jī);Midrotechnik GmbH;將設(shè)計(jì)圖形線路利用激光直寫在涂有光刻膠之芯片等基材上;在掩膜板與光刻膠之間使用光學(xué)系統(tǒng)聚集光實(shí)現(xiàn)曝光 |
| 8486303900 | 打碼及邊緣曝光機(jī) |
| 8486303900 | 影像自動(dòng)非平行曝光機(jī) |
| 8486303900 | 彩膜曝光機(jī) |
| 8486303900 | 引線框曝光機(jī) |
| 8486303900 | 將電路圖繪制到感光半導(dǎo)體材料上的裝置 |
| 8486303900 | 將電路圖投影到感光半導(dǎo)體材料上的裝置 |
| 8486303900 | 半自動(dòng)平行曝光機(jī) |
| 8486303900 | 半導(dǎo)體電路投影機(jī) |
| 8486303900 | 其他將電路圖投影或繪制到感光半導(dǎo)體材料上的裝置 |
| 8486303900 | 光刻機(jī);Midas;將設(shè)計(jì)圖形線路利用激光直寫在涂有光刻膠之芯片等基材上;在掩膜板與光刻膠之間使用光學(xué)系統(tǒng)聚焦光實(shí)現(xiàn)曝光 |
